保質(zhì)期 | 36個(gè)月 |
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產(chǎn)地 | 江蘇 |
類別 | 光亮劑 |
執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn) | 國(guó)標(biāo) |
種類 | 鍍鋅添加劑 |
主要用途 | 光亮鍍鋅工藝 |
分類 | 電鍍助劑 |
品牌 | 夢(mèng)得 MENGDE |
型號(hào) | CT-Ⅰ |
準(zhǔn)入認(rèn)證 | IOS9001 |
1. 具有優(yōu)良的光亮度、平滑度及均一度。
2. 出光快,濁點(diǎn)高,耐溫性好,電流效率高,降低對(duì)鍍液冷卻要求,節(jié)省能源,增加產(chǎn)能。
3. 吊鍍、滾鍍均適用。
4. 廢水處理容易。
原料及操作條件 | 范圍 | 標(biāo)準(zhǔn) |
**(KCL) | 190-220g/L | 200g/L |
氯化鋅(ZnCL2) | 50-70g/L | 60g/L |
硼酸(H3BO3) | 25-35g/L | 30/L |
CT-Ⅰ光亮劑 | 0.6-0.8ml/L | 0.7ml/L |
CT-Ⅰ柔軟劑 | 15-25ml/L | 20ml/L |
PH | 4.8-5.8 | 5.2 |
溫度 | 15-50℃ | 30℃ |
陰極電流密度 | 0.3-5A/dm2 | 2A/dm2 |
1、 鍍液要做到三定(定期分析,定期加料,定期過(guò)濾)。
2、 CT-Ⅰ 光亮劑的消耗量60-100mL/KAH,CT-Ⅰ 柔軟劑的消耗量150-300 mL/KAH,補(bǔ)加藥水時(shí),按光亮劑:柔軟劑=1:3的比例補(bǔ)加。
3、 鐵雜質(zhì)的影響和處理:當(dāng)鐵雜質(zhì)的含量大于5g/L時(shí),高電流密度區(qū)出現(xiàn)燒焦和粗糙現(xiàn)象,低電流密度區(qū)鍍層泛黃??捎帽竟鹃_(kāi)發(fā)的綜合除雜劑進(jìn)行處理。先加入1-2ml/L 綜合除雜劑 A劑,充分?jǐn)嚢韬螅偌尤?-2ml/L B劑,充分?jǐn)嚢韬笞屍潇o止沉淀,然后進(jìn)行過(guò)濾。處理結(jié)束后,需要適量補(bǔ)充一些光亮劑。
4、 銅雜質(zhì)的影響和處理:銅雜質(zhì)對(duì)鍍液的影響較大,當(dāng)銅雜質(zhì)在鍍液中含量過(guò)高時(shí),高電流密度區(qū)會(huì)出現(xiàn)燒焦和粗糙,低電流密度區(qū)鍍層發(fā)黑??捎眯‰娏麟娊獬ァ>o急情況下也可用1-2g/L的鋅粉處理。
5、 有機(jī)雜質(zhì)的影響和處理:有機(jī)雜質(zhì)累積到一定量后,會(huì)使鍍層粗糙、發(fā)霧,鈍化后無(wú)光澤,覆蓋能力下降。可加入1-3g/L活性炭,經(jīng)充分?jǐn)嚢?,靜置過(guò)夜后過(guò)濾。
(1)先將計(jì)算量的**、硼酸加入槽內(nèi),攪拌使其溶解;
(2)將計(jì)算量的氯化鋅用少量水溶解,在強(qiáng)烈攪拌下,加入1g/L~2g/L鋅粉,攪拌30min,靜置2~3小時(shí),過(guò)濾清液到鍍槽;
(3)加入選定的組合添加劑,然后加水至總體積,攪拌均勻,測(cè)定pH值并調(diào)整到工藝規(guī)范內(nèi),低電流0.1A/dm2~0.3A/dm2電解數(shù)小時(shí)后試鍍。