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電子束蒸發(fā)的大優(yōu)點在于：電子束的光斑可以隨意調整，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發(fā)任意鍍膜材料，維修方便，蒸發(fā)速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機械強度好。濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過動能傳輸，令靶材的分子（原子）有足夠的能量從靶材表面逸出，真空鍍膜廠在產(chǎn)品表面凝聚形成薄膜。用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強，薄膜的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料，但是對靶材的要求高，不能象電子qiang一樣節(jié)約資源。目前運用多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強電場，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作簡單的一種，所以運用非常廣。鞋類材料的鞋材真空鍍膜技術是采用物理或化學方法在固體表面涂上特殊性能的涂層，手機配件IP電鍍工廠，從而使固體表面具有耐磨性，耐高溫性，耐腐蝕性，輻射防護性，導電性，磁導率和絕緣性裝飾和裝飾等許多優(yōu)點都優(yōu)于固體材料本身，這可以提高產(chǎn)品質量，延長產(chǎn)品壽命，節(jié)省能源并獲得重大的技術和經(jīng)濟效益。因此，鞋材真空鍍膜技術被譽為具發(fā)展前景的Z重要技術之一，在高科技產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中顯示出誘人的市場前景。這項新興的鞋材真空鍍膜技術已應用于國民經(jīng)濟的各個領域，例如航空，航天，電子，信息，機械，石油，化工，環(huán)保等領域。
離子鍍是結合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術而發(fā)展起來的沉積技術。在真空條件下，真空鍍膜廠采用適當?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質離子的轟擊下，蒸發(fā)物質或其反應產(chǎn)物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質廣、沉積速率快等優(yōu)點。
表離子鍍的種類及其特點
直流放電法 電阻 輝光放電dc:0.1kv～5kv 惰性氣體1pa，0.25ma/cm2 結構簡單，膜層結合力強，但鍍件溫升高，手機配件IP電鍍廠家在哪，分散性差！
耐熱，潤滑等鍍件
弧光放電法 電子束、燈絲 弧光放電dc:100v高真空1.33x10-4pa 離化率高，易制成反應膜，可在高真空下成膜，深圳手機配件IP電鍍，利于提高質量 切削工具、金屬裝飾等鍍件
空心陰極法 空心陰極 等離子體電子束dc:0v～200v
惰性氣體或反應氣體 離化率高，蒸發(fā)速度大，易獲得高純度膜層 裝飾、耐磨等鍍件
調頻激勵法 電阻、電子束 射頻電場13.56mhzdc:0.1kv～5kv
惰性氣體或反應氣體 離化率高，膜層結合力強，鍍件溫升低，但分散性差 光學、半導體等鍍件
電場蒸發(fā)法 電子束 二次電子dc:1kv～5kv
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