鍍金,鍍錫,鍍銀
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更新日期2022-05-29 06:47
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安徽 蕪湖市 |
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長(zhǎng)期有效 |
電鍍層的要求
不同的產(chǎn)品對(duì)鍍層的要求不同,但就其共性來(lái)說(shuō),鍍銀哪家好,對(duì)鍍層的主要要求有:
1)鍍層與基體,包括鍍層與鍍層之間,應(yīng)有良好的結(jié)合力;
2)鍍層在零件的主要表面上,鍍銀廠家,應(yīng)有比較均勻的厚度和細(xì)致的結(jié)構(gòu);
3)鍍層應(yīng)具有規(guī)定的厚度和盡可能少的孔隙;
4)鍍層應(yīng)具有規(guī)定的各項(xiàng)指標(biāo)。例如:表面粗糙度、硬度、色彩以及鹽霧試驗(yàn)?zāi)臀g性等。
真空蒸鍍
真空蒸鍍,南京鍍銀,簡(jiǎn)稱蒸鍍,是指在真空條件下,采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料(或稱膜料)并使之氣化,粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。蒸鍍是使用較早、用途較廣泛的氣相沉積技術(shù),具有成膜方法簡(jiǎn)單、薄膜純度和致密性高、膜結(jié)構(gòu)和性能等優(yōu)點(diǎn)。
蒸鍍的物理過(guò)程包括:沉積材料蒸發(fā)或升華為氣態(tài)粒子→氣態(tài)粒子快速?gòu)恼舭l(fā)源向基片表面輸送→氣態(tài)粒子附著在基片表面形核、長(zhǎng)大成固體薄膜→薄膜原子重構(gòu)或產(chǎn)生化學(xué)鍵合。將基片放入真空室內(nèi),以電阻、電子束、激光等方法加熱膜料,使膜料蒸發(fā)或升華,氣化為具有一定能量(0.1~0.3eV)的粒子(原子、分子或原子團(tuán))。氣態(tài)粒子以基本無(wú)碰撞的直線運(yùn)動(dòng)飛速傳送至基片,到達(dá)基片表面的粒子一部分被反射,另一部分吸附在基片上并發(fā)生表面擴(kuò)散,沉積原子之間產(chǎn)生二維碰撞,形成簇團(tuán),表面鍍銀,有的可能在表面短時(shí)停留后又蒸發(fā)。粒子簇團(tuán)不斷地與擴(kuò)散粒子相碰撞,或吸附單粒子,或放出單粒子。此過(guò)程反復(fù)進(jìn)行,當(dāng)聚集的粒子數(shù)超過(guò)某一臨界值時(shí)就變?yōu)榉€(wěn)定的核,再繼續(xù)吸附擴(kuò)散粒子而逐步長(zhǎng)大,終通過(guò)相鄰穩(wěn)定核的接觸、合并,形成連續(xù)薄膜。
電鍍層加工常見(jiàn)的個(gè)質(zhì)量問(wèn)題:
1、鍍層脆性
在SMD電鍍后切筋成形后,可見(jiàn)在管腳彎處有開(kāi)裂景象。當(dāng)鎳層與基體之間開(kāi)裂,斷定是鎳層脆性。當(dāng)錫層與鎳層之間開(kāi)裂,斷定是錫層脆性。形成脆性的緣由多半是添加劑,亮光劑過(guò)量,或許是鍍液中無(wú)機(jī)、有機(jī)雜質(zhì)太多形成。
2、氣袋
氣袋的形成是由于工件的形狀和積氣條件而形成。氫氣積在“袋中”無(wú)法排到鍍液液面。氫氣的存在阻止了電析鍍層。使積累氫氣的部位無(wú)鍍層。在電鍍時(shí),只要注意工件的鉤掛方向可以避免氣袋現(xiàn)象。如圖示工件電鍍時(shí),當(dāng)垂直于鍍槽底鉤掛時(shí),不產(chǎn)生氣袋。當(dāng)平行于槽底鉤掛時(shí),易產(chǎn)生氣袋。
3、塑封黑體中央開(kāi)“錫花”
在黑體上有錫鍍層,這是由于電子管在焊線時(shí),金絲的向上拋物形太高,塑封時(shí)金絲外露在黑體表面,錫就鍍?cè)诮鸾z上,像開(kāi)了一朵花。不是鍍液?jiǎn)栴}。
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