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真空蒸鍍的關(guān)鍵參數(shù)

飽和蒸氣壓(PV): 在一定的溫度下，真空室中蒸發(fā)材料的蒸氣在與固體或液體平衡過程中所表現(xiàn)的壓力.飽和蒸氣壓與溫度的關(guān)系曲線對(duì)于薄膜制作技術(shù)有重要意義，它可以幫助我們合理選擇蒸發(fā)材料和確定蒸發(fā)條件。

真空度：P ≤ 10-3 Pa（保證蒸發(fā)，粒子具分子流特征，以直線運(yùn)動(dòng)）

基片距離 (相對(duì)于蒸發(fā)源)：10~50 cm（兼顧沉積均勻性和氣相粒子平均自由程）蒸發(fā)出的原子是自由、無碰撞的，無錫鍍錫， 沉積速度快。容易根據(jù)蒸發(fā)原料的質(zhì)量、蒸發(fā)時(shí)間、襯底與蒸發(fā)源的距離、襯底的傾角、材料的密度等計(jì)算薄膜的厚度。

從***減少電鍍廢氣

通過改變電鍍工業(yè)生產(chǎn)的工藝流程，鍍錫價(jià)格，或采用無毒材料，使電鍍生產(chǎn)過程中，鍍錫廠家，達(dá)到有毒有害廢氣零排放的目的。

1 在電鍍過程中，對(duì)鍍件清洗時(shí)，叫投采用堿洗除油、酸洗除繡，因此，在清洗溶液中，分別添加酸霧、堿霧，可以有效減少酸霧、 堿霧的排放。2鉻霧的抑制，金屬鍍錫，可以采用低溫設(shè)備或低溫工藝流程，同時(shí)在鍍絡(luò)溶液中加入少售的全氟醚磺酸鹽，并注意全氟院醚磺酸鹽配置方法和配比，可以有效抑制鉻霧的產(chǎn)生。此外，還可以在鍍銘槽表面，覆蓋一層聚乙烯、聚材質(zhì)的空心小球，也能有效抑制鉻霧釋放。3氮氧化物的抑制，抑制電鍍工藝中氮氧化物的排放，可以采用不加的電鍍工藝流程，如鋁件電鍍時(shí)，采用硫酸和磷酸，再加入少量的添加劑，即可對(duì)鋁件進(jìn)行拋光。另一方面，利用化學(xué)氧化法和化學(xué)還原法，將氧化成或者將氮氧化物氣體還原成無毒的惰性氣體。

在電鍍加工生產(chǎn)線上，工件在電鍍加工前進(jìn)行的一系列前處理都是為了得到更好的鍍層，那么化學(xué)拋光在整個(gè)前處理中也是很重要的，下面我們就來了解一下電鍍加工前處理的化學(xué)拋光。

化學(xué)拋光是指在合適的溶液中，不使用外接電源，依靠化學(xué)浸蝕作用對(duì)工件進(jìn)行的拋光。在化學(xué)拋光過程中，由于金屬微觀表面形成了不均勻的鈍化膜，或由于形成了類似電解拋光過程中所形成的稠質(zhì)黏膜，從而使表面微觀凸出部分的溶解速度顯著大于微觀凹入部分，因此降低了零件的表面顯微粗糙程度，使零件表面比較光亮和平整?；瘜W(xué)拋光廣泛應(yīng)用于不銹鋼、銅及鋁合金等的拋光，還用于對(duì)一些零件做裝飾加工。化學(xué)拋光可作為電鍍加工前的處理工序，也可在拋光后輔以必要的防護(hù)措施而直接使用。

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