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真空鍍膜技術(shù)主要有：真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。

除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點：

(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。

(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，大大擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時蒸鍍不同材料而得到多層膜。

(3)蒸發(fā)或濺射出來的制膜材料，七彩鞋材鍍膜廠在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對其膜厚可進(jìn)行比較的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。

(4)每種薄膜都可以通過微調(diào)閥地控制鍍膜室中殘余氣體的成分和質(zhì)量分?jǐn)?shù)，從而防止蒸鍍材料的氧化，把氧的質(zhì)量分?jǐn)?shù)降低到Z小的程度，還可以充入惰性氣體等，這對于濕式鍍膜而言是無法實現(xiàn)的。

(5)由于鍍膜設(shè)備的不斷改進(jìn)，七彩鞋材鍍膜廠鍍膜過程可以實現(xiàn)連續(xù)化，從而大大地提高產(chǎn)品的產(chǎn)量，而且在生產(chǎn)過程中對環(huán)境無污染。

(6)由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電

真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的重要分支。它已廣泛應(yīng)用于光學(xué)，電氣工程，耳機(jī)配件真空電鍍哪里近，能源開發(fā)，物理和化學(xué)儀器，耳機(jī)配件真空電鍍廠家在哪，建筑機(jī)械，包裝，民用產(chǎn)品，表面科學(xué)和科學(xué)研究領(lǐng)域。用于真空鍍膜的方法主要包括蒸發(fā)鍍，濺射鍍，離子鍍，束沉積鍍和分子束外延。還有化學(xué)氣相沉積。如果真空涂層的目的是改變材料表面的物理和化學(xué)性質(zhì)，則該技術(shù)權(quán)利是真空表面處理技術(shù)的重要組成部分。下面來為大家介紹一下真空鍍膜的主要應(yīng)用方面。

在光學(xué)方面，一塊光學(xué)玻璃或石英表面涂有一層或多層不同物質(zhì)的薄膜，這些薄膜可以變成高反射性或非反射性（即抗反射涂層），或作為任何材料的反射或透射材料的所需比例?？梢灾瞥晌仗囟úㄩL并透射另一波長的濾片。從大口徑天文望遠(yuǎn)鏡和各種激光，到用于新建建筑物的茉莉花的大窗戶涂層，耳機(jī)配件真空電鍍哪家好，都需要使用真空鍍膜技術(shù)。減反射膜廣泛用于攝影和各種激光中，是新建筑的大窗戶所需要的。防反射涂層廣泛用于相機(jī)和電視攝像機(jī)的鏡頭。

現(xiàn)代科技發(fā)展的要求，真空鍍膜技術(shù)得到了飛速的發(fā)展。薄膜技術(shù)可以改變工件表面性能，耳機(jī)配件真空電鍍，提高工件耐磨損和耐腐蝕等性能，從而延長工件的使用壽命。薄膜技術(shù)也可以實現(xiàn)光學(xué)、電學(xué)、半導(dǎo)體薄膜器件的制備，具有很高的經(jīng)濟(jì)價值。

大多數(shù)塑料在鞋材真空鍍膜之前，一般先要涂覆底涂層，主要原因是有以下幾點：

一：塑料在成型后，表面肯定有一定的粗糙度，比如有0.5um的粗糙度。

鞋材真空鍍膜層很薄，很難掩蓋基材表面的凹凸不平，如果采用底涂技術(shù)，光固化涂層厚度約10~20um，涂層自身粗糙度在0.1um以下，因此可大大提高鍍層的光亮度。

二：塑料中含有水分、殘留溶劑、單體、低聚合物、增塑劑等，揮發(fā)性小分子會在真空或升溫環(huán)境下逸出表面，嚴(yán)重影響真空鍍層對基材的附著力，而采用底涂技術(shù)就可阻礙這些小分子的逸出，提高真空鍍層對基材的附著力。

三：塑料基材與鞋材真空鍍膜層通常為金屬)兩者熱膨脹系數(shù)相差很大，在真空鍍膜升溫、降溫過程中膜層容易p裂，膜層越厚，p裂的可能性越大，因此選用合適的涂層作為過渡層，可以減少內(nèi)應(yīng)力的積累和p裂的發(fā)生。

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